% Fag: prosessregulering
% Loesning til oeving 8
% DDiR, 4/11-2002

% a)
% Beregning av w_180 for prosess med P-regulator
w=1;
for i=1:100
   w=(pi-atan(w)-atan(w/2))/2;
end
w_180=w

% Kritisk forsterkning, lukket system med P-regulator.
a_h0=1/(sqrt(1+w_180^2)*sqrt(4+w_180^2));
Kcu=1/a_h0

% b)
% Ziegler-Nichols PI-regulatorparametre
Kp=Kcu/2.2
Pu=2*pi/w_180;
Ti=Pu/1.2

% c)
% Beregning av w_180 for prosess med PI-regulator og ZN-parametre.
w=1;
for i=1:100
   w=(pi+atan(Ti*w)-pi/2-atan(w)-atan(w/2))/2;
end
w_180_pi=w
% Beregning av forsterkningsmargin
a_h0=Kp*sqrt(1+(Ti*w)^2)/(Ti*w*sqrt(1+w^2)*sqrt(4+w^2))
Gm=1/a_h0

% Beregning av w_c for prosess med PI-regulator og ZN-parametre.
w=1
for i=1:100
   w=Kp*sqrt(1+(Ti*w)^2)/(Ti*sqrt(1+w^2)*sqrt(2+w^2));
end
wc=w

% Beregning av fasemargin
v_h0=-2*w+atan(Ti*w)-pi/2-atan(w)-atan(w/2);
PM=v_h0+pi
PM*180/pi




